釉面磚有著平滑細(xì)膩的表面質(zhì)感和清淡高雅的花色圖案,因此倍受市場(chǎng)青睞,是建筑陶瓷市場(chǎng)的主要產(chǎn)品之一。但正是由于釉面磚的這種釉面效果,使其外觀缺陷會(huì)比其它建筑陶瓷產(chǎn)品更加明顯,因此其釉面質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)會(huì)更嚴(yán)于其它建陶產(chǎn)品,下面,小編為大家講解一下釉面磚“凹釉”的相關(guān)介紹。
一、“凹釉”的定義及分類(lèi)
“凹釉”也叫釉坑,成品釉表面可見(jiàn)到直徑不等的圓形凹坑,因此可與印花粘網(wǎng)缺陷分開(kāi)。
“凹釉”可分成兩大類(lèi):
(1)、物理型“凹釉”:一般過(guò)淋釉鐘罩后可見(jiàn),面積較大,數(shù)量不多,呈敞口狀。
(2)、化學(xué)型“凹釉”:過(guò)淋釉鐘罩后不見(jiàn),但燒成后可見(jiàn),面積較小,數(shù)量較多,呈火山口狀。
二、原因分析及解決措施
1、物理型“凹釉”
物理型“凹釉”主要由于釉漿中有油污或者坯體表面吸水率不一所造成。具體解決措施為: (1)
坯體原料配料球磨時(shí)混有樹(shù)根、草皮和包裝袋等有機(jī)質(zhì),素?zé)笈黧w表面留有小坑,施釉以后釉漿沉落而形成凹陷,因此應(yīng)在裝球入料前盡可能除去這些有機(jī)質(zhì)。一般小孔洞由于釉的表面張力沒(méi)有影響,但直徑大于2mm的孔洞則有此缺陷。
(2)
粉料中間夾雜死料和結(jié)塊等,致使成形時(shí)坯體致密度不一,從而使坯體表面吸水率不一。此時(shí)應(yīng)穩(wěn)定干燥塔的操作,防止出現(xiàn)堵槍或塌料情況,同時(shí)加強(qiáng)粉料過(guò)篩。
(3) 粉料干濕度不一也會(huì)出現(xiàn)(2)所列的情況,此時(shí)應(yīng)穩(wěn)定干燥塔的操作,同時(shí)保證陳腐時(shí)間充足。
(4)
成形時(shí)毛邊脫落后被推入模腔中再次與粉料受壓成形,其吸水率與正常粉料不一,一般成形后可見(jiàn)生坯表面有較深顏色的薄片。此時(shí)應(yīng)改善模具結(jié)構(gòu),更換模具,同時(shí)加強(qiáng)高壓氣吹掃的操作。
(5) 坯體表面粗糙,凹凸不平,釉漿依附于坯體表面形成凹凸不平效果。此時(shí)應(yīng)調(diào)整粉料級(jí)配,同時(shí)選用硬質(zhì)膠模或鋼模。
(6) 坯體表面受到破壞時(shí)也會(huì)產(chǎn)生如此缺陷。此時(shí)應(yīng)調(diào)整掃灰刷子的壓力,清潔推坯平臺(tái)。
(7)
坯體表面粘有坯粉時(shí),素?zé)笳撤厶幯趸療刹蛔悖瑢?dǎo)致吸水率不一致。此時(shí)應(yīng)加強(qiáng)入窯前清掃坯表的工作。同時(shí)要注意窯頂落渣或爆磚也會(huì)產(chǎn)生類(lèi)似影響。
(8) 坯體表面在干燥窯和素?zé)G中發(fā)生油漬污染,與釉漿相斥。此時(shí)應(yīng)使燒嘴完全燃燒,防止油滴或油炭渣落在坯體表面。
(9) CMC質(zhì)量不好或者變質(zhì)發(fā)酵,也會(huì)影響釉漿質(zhì)量。此時(shí)應(yīng)選用優(yōu)質(zhì)的CMC,注意夏季高溫時(shí)釉漿保存時(shí)間不能太長(zhǎng)。
(10)
在釉料的制備貯運(yùn)過(guò)程中混入油質(zhì),尤其在換用釉泵管桶及攪拌機(jī)等新設(shè)備或在設(shè)備維修后應(yīng)注意不要混入油污。少量的這種“凹釉”缺陷可以加入適量的洗潔精等來(lái)消除;若不能消除則要停止使用,換用新釉料,同時(shí)應(yīng)注意檢查釉漿放漿所用壓縮空氣是否混入油質(zhì)。
(11)
施釉前噴水不均勻,甚至出現(xiàn)水滴,從而使坯體表面吸附釉漿不一。此時(shí)可采用刀形噴嘴保證噴水效果均勻。若用甩釉機(jī)淋水,則應(yīng)提高其轉(zhuǎn)速和加裝甩釉塑片。
(12)
釉漿中混入氣泡,施釉于坯體表面后容易破裂形成“凹釉”。此時(shí)應(yīng)保證釉漿足夠的高度陳腐時(shí)間;釉桶中釉漿的高度不低于釉泵立柱上的射流孔,防止攪拌混入氣泡;在鐘罩上加裝隔離篩網(wǎng)以除去氣泡。
(13)
施釉線工作環(huán)境不佳,灰塵漂浮,落到淋釉未干的釉面上。此時(shí)應(yīng)加強(qiáng)施釉線清潔,同時(shí)多灑水。有條件的話,把施釉至印花段封閉,甚至把整個(gè)施釉線封閉避免灰塵漂落。
(14) 由施釉時(shí)施釉速度、淋釉重量和鐘罩形狀等造成,此時(shí)應(yīng)調(diào)整淋釉工藝參數(shù)并使其穩(wěn)定。
2、化學(xué)型“凹釉”
化學(xué)型“凹釉”主要由燒成時(shí)坯體釉層中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)造成,一般生產(chǎn)中比較少見(jiàn)。具體解決措施為:
(1)
在坯體配方中引入碳酸鹽、硫酸鹽等礦物較多,在燒成過(guò)程中受熱分解所釋放的氣體沖開(kāi)熔融釉層,尤其在坯料球磨篩余量較大時(shí)更加明顯。此時(shí)應(yīng)調(diào)整好坯體配方,降低燒失量;同時(shí)控制好泥漿篩余量。
(2) 坯體原料中混有煤渣、鐵質(zhì)等,在燒成過(guò)程中與釉料發(fā)生反應(yīng)。這種“凹釉”一般可見(jiàn)于凹坑中心處有黑色或綠色點(diǎn)狀,因此應(yīng)注意過(guò)篩除鐵。
(3)
干燥塔制粉時(shí)水煤漿燃燒不完全產(chǎn)生的煤灰混入粉料中,燒成過(guò)程中繼續(xù)燃燒并放出氣體。此時(shí)只能控制好熱風(fēng)爐,使水煤漿完全燃燒,并杜絕煤渣混入粉料。
(4) 素?zé)龝r(shí)坯體氧化分解不完全,釉燒過(guò)程中仍有大量揮發(fā)氣體,尤其大規(guī)格磚這種現(xiàn)象更加明顯。此時(shí)應(yīng)調(diào)整燒成曲線,延長(zhǎng)氧化分解段。
(5) 釉漿中有大顆粒雜質(zhì)存在,燒成時(shí)反應(yīng)異常,而該處釉料過(guò)少不能補(bǔ)平。此時(shí)應(yīng)將釉料過(guò)100目篩才使用。
(6) 熔塊在熔制過(guò)程中反應(yīng)不完全,氣體未完全排除,在燒成時(shí)釉料發(fā)生第二次反應(yīng)而造成。此時(shí)要求控制好進(jìn)球熔塊的質(zhì)量,每批次熔塊須做磚樣實(shí)驗(yàn)。
(7) 面釉的始熔溫度太低,與坯體成熟溫度不相匹配。此時(shí)可在面釉中適當(dāng)提高高嶺土的加入量。
(8) 面釉的高溫粘度大,表面張力不夠匹配,熔融釉面不能拉平。此時(shí)應(yīng)適當(dāng)降低面釉的高溫粘度。
三、“凹釉”缺陷
1、“凹釉”缺陷在水晶瓷片中比較常見(jiàn),其產(chǎn)生原因涉及到釉面磚的每個(gè)生產(chǎn)工序,同時(shí)伴隨有其它缺陷產(chǎn)生,需要時(shí)刻監(jiān)測(cè)整個(gè)工藝流程。
2、“凹釉”缺陷在亮面瓷片較為常見(jiàn),但其他釉面磚都會(huì)出現(xiàn),只是個(gè)別啞光磚、仿古磚不明顯看到。
3、在建筑陶瓷生產(chǎn)中,我們應(yīng)加強(qiáng)分析各種缺陷的產(chǎn)生原因,準(zhǔn)確快捷地解決生產(chǎn)中的實(shí)際問(wèn)題,降低生產(chǎn)成本,提升質(zhì)量檔次。
以上就是關(guān)于釉面磚“凹釉”缺陷原因分析及解決措施,希望對(duì)可以幫助大家了解。
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